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工业用水水处理要求

   工业纯水的分析主要是对制水系统产水水质进行全面的质量检验。为了控制出水质量,必须合理地选择出水水质的检控指标。各类水质标准中主要控制项目有微生物、有机物、颗粒、电解质及溶解气体等。颗粒、有机物及微生物等杂质对元器件质量影响显著,几乎成为所有电子级水质标准的必控指标;电阻率可以反映水中电解质的含量而成为一项重要指标,某些离子由于危害性大而列为专项控制指标;由于硅在水中存在状态的复杂性及其对器件危害严重,多数标准均列为控制专项;由于高纯水的pH值在空气中极不稳定,而且水中氢离子的浓度可以通过电阻率反映出来,故控制pH值已无太大意义;对于医药行业则对注射用水中的热原有严格的控制。
由于超纯水中杂质离子含量极少,所以取样分析的方法进行水质监测已经不能真实反映水中杂质的含量,普遍采用在线设置控制仪器并打印监测结果从而控制出水水质。
(1)硅的测定
   高纯水及高纯物质中硅的测定方法,有中子活化法、质谱法、光谱法、原子吸收光谱法及分光光度法等。中子活化法具有高灵敏度及可进行多元素同时测定等特点,但受放射源及仪器价格的限制,在国内难为普及;催化质谱法间接测定硅,是一个很有前途的方法。经典的分光光度法,经改进仍可满足高纯水中硅分析的要求,是目前国内最通用的测试方法;原子吸收当谱法灵敏、快速,已得到日益广泛的应用。
(2)金属元素的测定
   高纯物质中金属元素的测量已有数十年的历史,最广泛应用的分析技术是发射光谱法、原子吸收分光光度法、分光光度法及质谱法与伏安法等。近年来离子选择性电极法也用于高纯水的分析。中子活化法与质谱法也有应用,但由于分析仪器昂贵分析条件要求高,使其应用受到了限制。
(3)阴离子的测定
   离子色谱法是最早应用的色谱技术之一,目前已广泛应用于水质、、土壤和医学等领域。该法可以测定的离子包括:Cl-、F-、PO43-、NO2-、ClO3-、ClO4-、SO42-、I-、IO3-、Br-等阴离子和Li+、Na+、K+、NH4+、Ca2+、Mg2+、Fe2+、Cu2+等阳离子。在水质分析中,应用最多的是测定Cl-、F-、NO3-、SO42-等阴离子。
离子选择性电极法可测定Cl-,这种检测方法精密度对大于100μg/L的Cl-,变异系数小于6%;对于60μg/L的Cl-,则为7%;对于20μg/L的Cl-,回收率可达82%-95%。温度的变化对测定影响很大,温度降低时,灵敏度提高,但影响时间加长,测量中温差不宜超过10度。
(4)有机物的测定
   纯水中有机物的测定方法沿用了原水中的水处理方法,即用高锰酸钾和重铬酸钾来测定有机物的含量,此法称为化学耗氧量法,它仅能反映水中可被氧化的有机物的含量。高锰酸钾氧化法测定结果较低,适用于洁净水体和纯水中有机物相对测量,重铬酸钾法氧化能力较高,一般适用于受污染的水体。
总有机碳测定技术分为高温干式氧化法及低温湿式氧化法。干式氧化法是在高温通入氧进行氧化,其检测范围为1-200mg/L。湿式氧化法是在常温和紫外线催化下,以过硫酸盐氧化有机物,生成的二氧化碳可用红外线测定仪或水吸收后用电导法测定。高纯水中有机物的测定应该用总有机碳法,并有建议使用湿式氧化法,因为此法空白低,可检测微克/升级的有机碳,比高温氧化法的检测范围低两个数量级,适用于电子级用水中有机物的测定。
(5)颗粒的测定
   高纯水中颗粒的测定主要用激光散射式测量法和过滤检数法。前一种方法可以适用于在线测量和实验室测量,现已可以进行0.05μm的颗粒的检数;后一种方法是实验室测定方法,用于检测高纯水中粒子尺寸大于0.1μm的粗分散系与部分胶态分散系的颗粒物质。还有一种过滤比时法也比较常用,适用于原水和预脱盐工序的颗粒性物质的相对测量。
(6)细菌的测定
   培养法是测量水体内细菌的常用水处理方法,包括过滤培养法、平皿培养法和测菌盒法。前两种方法适用于高纯水中细菌的测定;后一种方法则主要适用于对原水中细菌的分析,此法简便、快速、可就地取样。培养法只能测定部分活的细菌,有些细菌在测量条件下,不生成或尚未生成菌落,因而不成检出。另外,过滤检数法也可用于细菌的测定,它省去了细菌的培养的过程,使水处理更为迅速简便。
(7)细菌内毒素的测定
   细菌内毒素的测定方法有分光光度法、浊度法和凝胶法。分光光度法分析操作都比较烦琐,且耗时长、费用高。而凝胶法灵敏、准确可靠、操作简单且易推广。
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